化合物材料・パワーデバイス｜Compound Materials
仏 Novasic社によるSiC基板再生・研磨サービス、SOS基板 サファイア基板Monocrystal社の高品質サファイア基板、SOS基板を提供します。
仏 Novasic社 SiC基板等研磨・再生研磨
- アプリケーション
- 炭化けい素、窒化ガリウムなどの研磨または再生研磨（表面のエビ膜などを研削除去して研磨）およびデバイス表面の極薄層研磨。
- 特徴
- 基板にダメージを与えることなく表面の平坦化を行い、Si面でRMS=1A以下を達成。この研磨によるオフ角の小さな基板でも良好なエピ成長が可能であるとの報告あり。
- エピマウントが出来たような基板の表面を研削除去し、再研磨を行うことにより基板の再使用が可能。デバイス上の極薄層を研磨することによりデバイス電気特性の改善。
- システム
- 研磨または再生をしたいウェーハを弊社にてお預かりし、フランスへ送付して表面加工を行い返却します。
SOS基板 サファイア基板
西華産業はMonocrystal社の高品質サファイア基板、SOS基板を提供します。
SOSウエハ・サファイア基板
- サファイア基板 純度＞99.997％
- 窒化デバイス用2-4''基板
- 窒化デバイス用2,3''サファイアブランク
- 窒化デバイス用ミス方位2''サファイア 基板
- 半導体用サファイア基板（全方位対応）
高品質SOSウエハ
- ゲージ用途 2-4''ウエハ（100）面方位、裏面研磨
- ヘテロ層の厚さ：0.5-5.0μm±8％ N,P,及びアンドープタイプ
- 比抵抗：1-200Ω*cm